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Al4SiC4陶瓷在高溫還原性氣氛中的結構演變及機理研究

作者:鄭岐1孫僑陽2于景坤2袁磊2

作者單位:1. 中民馳遠實業有限公司2. 東北大學冶金學院

刊名:陶瓷學報

ISSN:2095-784X

出版年:2024-01-25

卷:

期:1

起頁:103-108

止頁:

分類號:TQ174.1

語種:中文

關鍵詞:Al4SiC4;含碳耐火材料;抗氧化性;還原反應;

內容簡介

碳化硅鋁是一種良好的含碳耐火材料抗氧化劑。該研究以鋁粉、硅粉和碳粉為原料制備出碳化硅鋁陶瓷,并將其置于1000℃~1500℃溫度范圍內的還原氣氛中,以模擬碳化硅鋁在含碳耐火材料中的實際使用環境并對其性能和反應機理進行了研究。研究結果表明,在還原性氣氛下,碳化硅鋁在1000℃~1400℃溫度范圍內先與一氧化碳通過氣相反應生成氧化鋁、碳化硅、碳及鋁硅酸鹽玻璃相。當溫度升至1500℃時,氧化鋁和碳化硅與一氧化碳通過氣相反應生成莫來石。上述反應將會在含碳耐火材料表面形成保護膜,阻止含碳耐火材料的氧化,提高了含碳耐火材料的抗氧化性。

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